本书针对微电子工业中的材料处理工艺（如半导体芯片加工），介绍有关的的低气压射频等离子体的产生方法及物理特性，涉及目前最重要的三种射频等离子体源（单频及多频电容耦合，电感耦合，螺旋波耦合）及其关联性。书中也论述了低温高密度等离子体在微电子器件制备等领域应用的最新进展及相关技术问题。