本书为《博士丛书》之一。内容共分八章，第一章对光电阴极的发展做了简要回顾，重点介绍了半导体光电阴极的研究进展；第二章对红外响应的场助半导体光电阴极材料结构和器件性能进行了理论分析与计算，为半导体光电阴极的设计与工作条件的选择提供必要的理论依据；第三章则根据理论计算，设计了几种结构的场助红外半导体光电阴极；第四、五、六章分别介绍了光电阴极材料的生长系统、生长过程及材料性能的测试结果与分析；第七章的主要内容是场助阴极肖特基结和欧姆接触的制备系统及工艺，并对肖特基结的理想因子及热退化机理进行了讨论；第八章介绍半导体阴极激活前的表面清洁、激活系统和工艺，并对几种结构光电阴极的激活结果进行了分析、讨论。
本书可供从事半导体材料研究的科研人员及高校有关专业师生阅读。