脉冲激光沉积类金刚石膜技术
作者:
程勇等 编著
ISBN:
9787030515513
出版日期:
2017-05
版次:
1
中图分类号:
TB43
丛书:
附注信息:
脉冲激光沉积技术是一种研究和开发新型高性能材料的有效途径,在制备新型碳材料——类金刚石膜方面,以其独有的特点,逐渐显现出填补传统技术空白的优势。但是,脉冲激光沉积技术制备的类金刚石膜也存在一些固有的缺陷,如内应力大、大面积不均匀等问题。如何采用脉冲激光沉积技术制备出具有工程应用价值的类金刚石膜,一直是国内外相关领域研究者的目标。全书共7章内容。从介绍类金刚石膜性质、组成、制备及应用入手,阐述脉冲激光沉积技术及其在制备类金刚石膜方面的机理和优点、缺点,以及类金刚石膜的测试与表征;详细讨论激光参数、基底状态、靶材种类以及环境气氛等因素对类金刚石膜性能的影响,偏重于阐述掺杂、退火、膜层结构及双激光技术等类金刚石膜降低内应力、提高膜层各种性能的改性技术;针对类金刚石膜的工程应用中存在的大面积不均匀、制备效率低的现实问题,展现多功能激光沉积系统,阐述脉冲激光沉积大尺寸均匀平面和球面类金刚石膜的装置、模型及实验;最后介绍脉冲激光沉积技术在制备其他功能薄膜方面的应用,展望该技术未来发展趋势和前景。

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