纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计
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作者：
(美)Sandip Kundu，(印)Aswin Sreedhar著；王昱阳，谢文遨译
ISBN：
9787030400345
出版日期：
2014-05
版次：
1
中图分类号：
TN432.02
学科分类：
动力与电气工程
电子与通信技术
丛书：
附注信息：
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图书简介：
本书内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理设计和可靠性；DFM工具和DFM方法等。
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